Probenpräparation

Multi Beam System JEOL JIB-4501
Beschleunigungsspannung 1 bis 30 kV (in 5 kV-Schritten)
Ionenquelle Ga-Flüssigmetall-Ionenquelle
Auflösung 5 nm (bei 30 kV)
Vergrößerung 60x, 200x bis 300.000x
Strahlstrom Bis zu 60 nA (bei 30 kV)
Bewegliche Blende 12 Stufen (Motorantrieb)
Formen des Ionenstrahls beim Fräsen Rechteck, Linie und Punkt
Precision Ar-Ion Polishing System Gatan PIPS II 692
Plasma Cleaner Gatan Solarus

Förderung

Das "Applikationslabor Elektronentomographie" wird aus dem Europäischen Fonds für Regionale Entwicklung (EFRE) der Europäischen Union und vom Land Berlin gefördert (Projekt-Nr. 2016011843).


Ihr Ansprechpartner

Dr. Achim Trampert Foto
  • Dr. Achim Trampert
  • trampert(at)pdi-berlin.de
  • +49 (0)30 20377-280
  • Raum 615
  • Hausvogteiplatz 5 - 7
    10117 Berlin
    Germany
  • Projektleiter

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