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Probenpräparation für Tomographie

  • Dual Beam System Jeol JIB-4501
    Beschleunigungsspannung 1 bis 30 kV
    Maximaler Probenstrom 60 nA
    Auflösung 2,5 nm bei 30 kV
    12 nm bei 1 kV
    Elektronenquelle LaB₆
    Vergrößerung 5x bis 300.000x
    Ionenquelle Gallium liquid metal ion source
    Formen des Ionenstrahls Rechteck, Linie, Punkt und Bitmap
    Maximale Probengröße ca. 30 x 50 x 4 mm³ (horizontaler Einbau)
    Aufsätze Gas-Injektionssysem für Kohlenstoff- und Wolframdeposition
  • Plasma Cleaner Gatan Solarus
  • Precision Ar-Ion Polishing System Gatan PIPS 692